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ASML
필립스의 작은 사업부에서 시작해, 7nm 이하 첨단 칩을 만드는 데 반드시 필요한 EUV 노광장비를 세계에서 유일하게 만드는 네덜란드의 반도체 장비 기업입니다.
ASML (ASML Holding N.V.)
반도체 회로를 웨이퍼에 '인쇄'하는 노광장비(리소그래피) 세계 1위. 특히 EUV 장비는 ASML만 만든다
| 설립 | 1984년 네덜란드 필립스와 반도체 장비사 ASM International이 합작으로 분사. 초기엔 필립스 부지의 조립식 건물에서 시작 |
| 사업 | 반도체 노광(리소그래피) 장비 — 빛으로 회로 패턴을 웨이퍼에 새김 |
| 독점 | 차세대 EUV(극자외선, 파장 13.5nm) 노광장비를 만드는 유일한 회사 |
| 핵심 협력사 | 광원 사이머(Cymer, 2013년 인수), 광학 자이스(ZEISS) |
| 위상 | 유럽에서 시가총액이 가장 큰 기술 기업 중 하나 |
ASML은 원래 'Advanced Semiconductor Materials Lithography'의 약자였지만, 지금은 그냥 ASML이라는 고유명입니다. 1984년 필립스의 노광장비 부서와 장비사 ASM International이 50:50 합작으로 세운 작은 회사였고, 초기엔 임직원 수십 명이 필립스 주차장 옆 조립식 건물에서 일했습니다. 1988년 ASM International이 지분을 정리하며 독립 회사가 됐습니다.
| 필립스 | 네덜란드의 전자 대기업. ASML·NXP·시그니파이 등 여러 회사의 모태 |
| 초기 고전 | 1980년대 후반까지 적자에 시달렸고, 미국·일본 장비사에 밀렸음 |
| 트윈스캔(TWINSCAN) | 웨이퍼 두 장을 번갈아 처리하는 구조로 생산성을 높인 2000년대 히트 제품 |
| EUV 도박 | 1990년대부터 20년 넘게, 수십억 유로를 들여 EUV를 개발 — 경쟁사들은 중도 포기 |
ASML은 EUV라는 극한 기술을 혼자 완성할 수 없어, 핵심 협력사를 인수하거나 지분을 확보하는 전략을 썼습니다. 또 대형 고객사(인텔·삼성·TSMC)로부터 개발 자금을 투자받기도 했습니다.
빛의 파장이 짧을수록 더 미세한 회로를 새길 수 있는데, EUV(13.5nm)는 공기에도 흡수되고 렌즈도 통과 못 하는 극한의 빛입니다. 니콘·캐논이 포기한 이 기술을 ASML은 고객사·정부와 함께 수십억 유로를 들여 20년 넘게 밀어붙여 결국 상용화했습니다.
EUV 빛은 주석 방울에 레이저를 두 번 쏴 플라즈마로 만듭니다. 이 광원의 출력이 낮아 오래 발목을 잡았는데, ASML이 광원 회사 사이머를 인수해 직접 개선하면서 양산 가능한 수준에 도달했습니다.
미국은 중국이 첨단 칩을 만들지 못하게 하려고 네덜란드 정부를 압박해 EUV의 중국 수출을 막았고, 이후 고성능 DUV까지 규제 대상이 됐습니다. ASML은 '정치가 사업을 좌우하는' 대표 사례가 됐습니다.
7nm 이하 첨단 공정 필수. 세계 유일 공급.
차세대 고개구율 장비. 2nm 이하를 겨냥.
성숙~중간 공정용. 니콘·캐논과 경쟁.
주석 플라즈마로 13.5nm 빛을 만드는 장치.
패턴 검사·보정 소프트웨어·장비.
장비 매출의 상당 부분을 차지하는 고정 수익.
| 항목 | 내용 |
|---|---|
| 회사명 | ASML (ASML Holding N.V.) |
| 설립~현재 | 1984년 ~ 현재 (42년차) |
| 결정적 장면 | 필립스 합작 분사(1984) → 독립·상장(1988·1995) → 트윈스캔 성공(2001) → 고객 공동투자(2012) → 사이머 인수(2013) → EUV 양산(2019) → High-NA(2024) |
| 핵심 사업 | EUV·DUV 노광장비, EUV 광원(사이머), 계측·서비스 |
| 현재 위상 | 첨단 반도체 생산의 필수 관문. EUV를 만드는 세계 유일 기업 |